Das Stipendium wurde 2010 jeweils geteilt und an sechs Künstler verliehen mit dem Ziel, in drei Ausstellungen gleich zwei unterschiedliche künstlerische Positionen herauszustellen. Ausgezeichnet wurden die Künstler Lucile Desamory und David Hahlbrock, Congress und Mercedes Neuss sowie der chinesische Künstler Yu Ziwei und das Künstlerduo Giulia Bowinkel und Friedemann Banz. Das Stipendium richtet sich an junge Künstler, die an der Kunstakademie Düsseldorf oder einer anderen Kunsthochschule studiert haben und deren Abschluss nicht länger als fünf Jahre zurückliegt. Ins Leben gerufen wurde das Künstler-Stipendium von der RölfsPartner-Gruppe, Düsseldorf, einer der führenden deutschen Wirtschaftsprüfungs- und Beratungsgesellschaften. Arbeiten der ausgezeichneten Künstler werden am 3. Februar im KIT präsentiert. Der Eintritt ist von 12 bis 18 Uhr für alle Besucher frei.